真空镀膜补正板在线自动控制单元

因镀膜靶材离子溅射具有弥散现象，会因镀件位置、镀件形状，导致靶材离子产生多镀或少镀现象，使膜厚度分布不均匀。在实际镀膜生产过程中，可通过在靶材与基片间设置一定数量的补正板，并调整补正板的长度来提高镀膜的均匀性。