真空镀膜补正板在线自动控制单元

【概述】

       因镀膜靶材离子溅射具有弥散现象，会因镀件位置、镀件形状，导致靶材离子产生多镀或少镀现象，使膜厚度分布不均匀。在实际镀膜生产过程中，可通过在靶材与基片间设置一定数量的补正板，并调整补正板的长度来提高镀膜的均匀性。调整补正板是镀膜工艺流程中一个非常重要步骤，目前技术手段只能靠人工调整补正板位置，耗费时间长，靶材能源浪费巨大，且精确率很低。

【特点】

1.结构轻便：航空级铝合金材质打造，强度高重量轻；

2.热磁屏蔽：隔热系统—在特殊环境下，防热辐射和电磁场干涉；

3.防污耐老化：高温防护罩—避免元器件遭受腐蚀污染；

4.易适配便安装：可定制化，安装方便快捷，可实现多模组无缝拼接，可选配水冷装置。

5.可靠性高：机械结构巧妙设计，可靠性能较高。

【应用领域】

       该技术应用领域广泛，包括平板显示、半导体、太阳能电池、光磁记录媒体、光学元器件、节能玻璃、LED、工具改性、高档装饰用品等真空镀膜设备。

             半导体领域应用

            光学元器件应用

【案例】

                 某光电所真空镀膜实验应用

                    某工厂真空镀膜机应用