真空环境工作条件:
1×10^−5pa
补正板位置修正精度:
0.1mm
适用镀膜类型:
CVD/PVD
控制方式:
在线控制
高温环境工作条件:
300℃
补正板重复位置修正精度:
0.05mm
真空镀膜补正板自动调整装置
产品参数
产品特点
因镀膜靶材离子溅射具有弥散现象，会因镀件位置、镀件形状，导致靶材离子产生多镀或少镀现象，使膜厚度分布不均匀。在实际镀膜生产过程中，可通过在靶材与基片间设置一定数量的补正板，并调整补正板的长度来提高镀膜的均匀性。调整补正板是镀膜工艺流程中一个非常重要步骤，目前技术手段只能靠人工调整补正板位置，耗费时间长，靶材能源浪费巨大，且精确率很低。
【特点】
1.结构轻便：航空级铝合金材质打造，强度高重量轻；
2.热磁屏蔽：隔热系统—在特殊环境下，防热辐射和电磁场干涉；
3.防污耐老化：高温防护罩—避免元器件遭受腐蚀污染；
4.易适配便安装：可定制化，安装方便快捷，可实现多模组无缝拼接，可选配水冷装置。
5.可靠性高：机械结构巧妙设计，可靠性能较高。
【应用领域】
该技术应用领域广泛，包括平板显示、半导体、太阳能电池、光磁记录媒体、光学元器件、节能玻璃、LED、工具改性、高档装饰用品等真空镀膜设备。
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